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      Wafer XRD

      簡(jiǎn)要描述:Wafer XRD
      Panalytical X射線(xiàn)技術(shù)
      用于全自動(dòng)晶圓揀選、生產(chǎn)和質(zhì)量控制。

      • 更新時(shí)間:2025-06-25
      • 產(chǎn)品型號(hào):
      • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:1422

      詳細(xì)介紹

      Wafer XRD用于全自動(dòng)晶圓揀選、生產(chǎn)和質(zhì)量控制


      特點(diǎn)

      • 適用于3到8寸晶圓。也可根據(jù)要求提供其他尺寸

      • FOUP、載具或單個(gè)晶圓臺(tái)

      • 跨槽晶圓識(shí)別為可選功能

      • 易于集成到任何工藝生產(chǎn)線(xiàn)中

      • 測(cè)量速度:每個(gè)樣品<10秒

      • 典型標(biāo)準(zhǔn)偏差(傾斜度):例如Si 100<0.003°

      • MES和SECS/GEM接口

      • 銅靶微焦點(diǎn)風(fēng)冷X射線(xiàn)光管(**30W)或細(xì)焦點(diǎn)水冷X射線(xiàn)光管(**1.5kW)

      • 符合CE標(biāo)準(zhǔn)的安全控制裝置

      • 通過(guò)3色燈塔指示狀



      材料

      Si、SiC、GaAs、GaN、藍(lán)寶石(Al?O?)、Ge、AIN、石英、InP和100s等。


      可選插件

      • 電阻率測(cè)量范圍:0.01至0.020Ωcm

      • 自動(dòng)識(shí)別晶圓數(shù)據(jù)矩陣碼、二維碼、條形碼或類(lèi)似代碼

      • 未拋光晶圓和鏡面的距離測(cè)量


      Wafer XRD

      年產(chǎn)1,000,000片晶圓




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