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      Wafer XRD

      簡要描述:Wafer XRD
      Panalytical X射線技術
      用于全自動晶圓揀選、生產和質量控制。

      • 更新時間:2025-07-30
      • 產品型號:
      • 訪  問  量:1631

      詳細介紹

      Wafer XRD用于全自動晶圓揀選、生產和質量控制


      特點

      • 適用于3到8寸晶圓。也可根據要求提供其他尺寸

      • FOUP、載具或單個晶圓臺

      • 跨槽晶圓識別為可選功能

      • 易于集成到任何工藝生產線中

      • 測量速度:每個樣品<10秒

      • 典型標準偏差(傾斜度):例如Si 100<0.003°

      • MES和SECS/GEM接口

      • 銅靶微焦點風冷X射線光管(**30W)或細焦點水冷X射線光管(**1.5kW)

      • 符合CE標準的安全控制裝置

      • 通過3色燈塔指示狀



      材料

      Si、SiC、GaAs、GaN、藍寶石(Al?O?)、Ge、AIN、石英、InP和100s等。


      可選插件

      • 電阻率測量范圍:0.01至0.020Ωcm

      • 自動識別晶圓數據矩陣碼、二維碼、條形碼或類似代碼

      • 未拋光晶圓和鏡面的距離測量


      Wafer XRD

      年產1,000,000片晶圓




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