納米粒度電位儀是一種集粒度分析與Zeta電位測量功能于一體的精密儀器，廣泛應用于納米材料研發、制藥工業、生物大分子分析及環境監測等領域。其核心技術基于動態光散射（DLS）、電泳光散射（ELS）和靜態光散射（SLS）三種光散射原理，可實現納米顆粒粒徑分布、表面電荷特性及分子量的同步表征。

　　動態光散射技術通過檢測顆粒布朗運動引起的散射光強度波動，結合斯托克斯-愛因斯坦方程計算流體力學半徑，粒徑檢測范圍覆蓋0.3納米至10微米，分辨率達0.3納米。電泳光散射技術利用外加電場下顆粒的遷移率，通過相位分析光散射（cm-PALS）技術精確測量Zeta電位，電位測量范圍可達±1000mV，有效評估膠體體系穩定性。靜態光散射模塊則通過分析散射光強與角度的關系，直接測定高分子物質的絕對分子量及第二維利系數。

　　納米粒度電位儀的日常維護：

　　1、徹d清洗樣品池：

　　比色皿型（玻璃或石英池）：

　　測量結束后，立即倒出樣品。

　　用大量去離子水反復沖洗3-5次，確保無殘留。

　　對于蛋白質、聚合物等易吸附樣品，可用稀釋的清洗液（如0.2%SDS溶液、實驗室專用清洗劑）浸泡10-15分鐘，再用去離子水徹d沖洗至中性。

　　最后用乙醇或丙酮潤洗（有助于快速干燥并去除有機殘留），然后用氮氣或壓縮空氣吹干，或倒置在潔凈容器中自然晾干。

　　流通池或自動進樣器池：

　　執行儀器自帶的“清洗程序”，使用去離子水或指定清洗液循環沖洗管路和池體。

　　確保清洗液流經所有接觸樣品的通道。

　　2、清潔電極（Zeta電位測量專用）：

　　Zeta電位測量使用的電泳池內有金屬電極（通常為鉑電極）。

　　每次使用后，必須用去離子水徹d沖洗電極表面，防止樣品沉積導致電極鈍化或污染。

　　定期（如每周）用稀硝酸（如10%）短時間浸泡電極（不超過5分鐘），以去除金屬氧化物或頑固沉積物，之后必須用大量去離子水沖洗干凈。

　　避免電極受到物理刮擦。

　　3、清潔儀器外部與載物臺：

　　用柔軟的無塵布擦拭儀器外殼和樣品倉。

　　用蘸有去離子水的棉簽輕輕清潔載物臺和定位槽，防止灰塵影響光路對準。

　　4、關閉儀器與防塵：

　　按規程正常關機。

　　蓋上儀器防塵罩，防止灰塵進入光學系統。